氮化硅薄膜窗口
隨著各種軟X射線光源的出現(xiàn)，如同步輻射、激光等離子體等高亮度的X射線源的發(fā)展，軟X射線顯微成像技術在全世界范圍內得到迅速發(fā)展。在此領域，需要應用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。
1. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術制備而成；
2. RISUN提供的氮化硅窗選用低應力氮化硅（0-250MP）薄膜，和ST氮化硅薄膜相比，低應力產品更堅固耐用，成為用戶的首選；
3. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學研究領域，例如，X-射線（上海光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。
透光度
使用透射（光學）顯微鏡時，完全可以透過薄膜窗進行觀察。但薄膜窗的厚度有一定限制，否則其透光度會明顯下降。對于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對于軟X射線（例如碳邊吸收譜），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶首選。
真空適用性
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薄膜厚度 |
窗口面積 |
壓力差 |
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≥50 nm |
≤1.0 x 1.0 mm |
1 atm |
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≥100 nm |
≤1.5 x 1.5 mm |
1 atm |
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≥200 nm |
≤2.5 x 2.5 mm |
1 atm |
表面平整度
RISUN氮化硅薄膜窗口具有穩(wěn)定的表面平整性（粗糙度小于1nm），對于X射線應用沒有任何影響。
溫度特性
RISUN氮化硅薄膜窗口是耐高溫產品，能夠承受1000℃高溫，非常適合在其表面利用CVD方法生長各種納米材料。
化學特性
RISUN氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。
RISUN氮化硅薄膜窗規(guī)格
單窗口系列
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薄膜厚度 |
窗口尺寸 |
框架尺寸 |
型號 |
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50-500nm |
1.5X1.5mm |
5.0X5.0mm |
RISUN |
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50-500nm |
2.5X2.5mm |
7.5X7.5mm |
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50-500nm |
3.0X3.0mm |
10X10mm |
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50-500nm |
5.0X5.0mm |
10X10mm |
硅片厚度：200um、381um、525um；
陣列系列
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薄膜厚度 |
窗口尺寸 |
框架尺寸 |
型號 |
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50-300nm |
2x2陣列，1.5X1.5mm |
5.0X5.0mm |
RISUN |
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50-300nm |
3x3陣列，1.5X1.5mm |
7.5X7.5mm |
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50-300nm |
4x4陣列，1.5X1.5mm |
10X10mm |
硅片厚度：200um、381um、525um；
定制系列
RISUN也可以根據(jù)用戶需求提供不同膜厚、鍍層（如：Au）的定制服務，50-100片起訂。
本產品為一次性產品，不建議用戶重復使用；本產品不能進行超聲清洗，適合化學清洗、輝光放電和等離子體清洗。
1. 同步輻射X射線（紫外或極紫外）透射成像或透射能譜應用中是不可或缺的樣品承載體。
2. 耐高溫、惰性襯底，適應各種聚合物、納米材料、半導體材料、光學晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，利于制備理想的用于X射線表征用的自組裝單層薄膜或薄膜（薄膜直接沉積在窗口上）。
3. 生物和濕細胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。
4. 耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學反應和退火效應的原位表征。
5. 適合作為膠體、氣凝膠、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。
氮化硅膜可用作軟X射線接觸顯微術的襯底支持膜，成像后直接進行透射電鏡觀察；
可作為同步輻射光束線中的污染阻擋層；可以成為制作各種光學波帶片的襯底薄膜；
可以作為投影顯微術靶的支持膜；可以用作真空窗口，在同步輻射軟X射線顯微術中，隔開光源超高真空與顯微術光學元件高真空部分；
在活樣品室設計中，隔開高真空的軟X射線部分與大氣壓，使樣品在大氣中曝光，這對于研究生物活細胞具有重大意義。
